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第3题
以下属于三联拉生产环境关联图内容的是：（)
A.生产过程中冷却废水排放、拉拔油使用、更换和废弃，对材料造成消耗、更换和废弃对水体和土壤造成污染
B.设备润滑油、液压油使用、更换和废弃，材料造成消耗、更换和废弃对水体和土壤造成污染
C.操作者须按指导书操作设备，减少或控制切削液外溢。应保持设备防护装置完好，以减少切削液的滴洒。
D.设备加注、更换油类应采取必要措施，防止操作失误或意外泄漏，造成不良环境影响，对于出现的滴洒应及时用棉纱等吸附收集。
第4题
实验室污染的处理包括()
A.标本污染生物安全柜的操作台造成局限污染时;立即用吸水纸覆盖，并使用0.55%含氯消毒剂进行喷洒消毒
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B.消毒液需要现配现用，24小时内使用
C.标本倾覆造成实验室污染时，保持实验室空间密闭，避免污染物扩散，立即使用润湿有0.55%含氯消毒剂的毛中覆盖污染区，必要时(如大量溢洒时)可用过氧乙酸加热熏蒸实验室，剂量为2g/时，熏蒸过夜，或20g/L过氧乙酸消毒液用气溶胶喷雾器喷雾，用量8ml/时，作用1-2小时
D.清理污染物时严格遵循活病毒生物安全操作要求，采用压力蒸汽灭菌处理，并进行实验室换气等，防止次生危害
第6题
如果半导体中同时掺入施主杂质和受主杂质，且施主杂质浓度和受主杂质浓度相等，会造成什么结果？（)
A.施主杂质和受主杂质之间高度补偿，半导体中存在大量杂质，特性很差
B.施主杂质和受主杂质完全补偿掉，结果是没有杂质，类似本征半导体
C.通过杂质的补偿作用，半导体变为N型半导体
D.通过杂质的补偿作用，半导体变为P型半导体
